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发明名称 PHOTO MASK AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR20090044545(A) 申请公布日期 2009.05.07
申请号 KR20070110681 申请日期 2007.10.31
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 KONG, DONG HO
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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