| 发明名称 |
Method of Controlling a Fabrication Process Using an Iso-Dense Bias |
| 摘要 |
Embodiments of controlling a fabrication process using an iso-dense bias are generally described herein. Other embodiments may be described and claimed.
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| 申请公布号 |
US2009118857(A1) |
申请公布日期 |
2009.05.07 |
| 申请号 |
US20070936769 |
申请日期 |
2007.11.07 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
BISCHOFF JOERG;WEICHERT HEIKO |
| 分类号 |
G06F19/00 |
主分类号 |
G06F19/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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