| 发明名称 | 光学薄膜的形成方法以及具有该薄膜的光学元件 | ||
| 摘要 | 一种光学薄膜的形成方法，该方法包括如下步骤：在光学构件的表面上形成主要由无机金属氧化物组成的精细结构层，然后通过液相沉积法形成无机硬层。 | ||
| 申请公布号 | CN101424749A | 申请公布日期 | 2009.05.06 |
| 申请号 | CN200810167308.X | 申请日期 | 2008.10.10 |
| 申请人 | HOYA株式会社;晶涂株式会社 | 发明人 | 山田和广;中山宽之;铃木峰太;盐川孝绅;佐藤幸治 |
| 分类号 | G02B1/10(2006.01)I;G02B1/04(2006.01)I;C01B33/00(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京戈程知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程 伟 |
| 主权项 | 1、一种形成光学薄膜的方法，该方法包括如下步骤：在光学构件的表面上形成主要由无机金属氧化物组成的精细结构层，然后通过液相沉积法形成无机硬层。 | ||
| 地址 | 日本东京都新宿区中落合二丁目7番5号 | ||