发明名称 Method of deposition of silicon carbide film in integrated circuit fabrication
摘要
申请公布号 EP1176226(B1) 申请公布日期 2009.05.06
申请号 EP20010116054 申请日期 2001.07.02
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 NEMANI, SRINIVAS D.;XIA, LI-QUN;SUGIARTO, DIAN;YIEH, ELLIE;XU, PING;CAMPANA-SCHMITT, FRANCIMAR;LEE, JIA
分类号 C23C16/32;C23C16/42;H01L21/20;H01L21/314;H01L21/768;H01L23/522 主分类号 C23C16/32
代理机构 代理人
主权项
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