薄膜电晶体之制造方法

摘要

一种薄膜电晶体之制造方法包括下列步骤：首先，于基板上形成一图案化多晶矽层。接着，于图案化多晶矽层上形成一闸绝缘层。然后，于闸绝缘层上形成一闸极层。之后，以闸极层作为罩幕，对图案化多晶矽层进行一第一掺杂制程，以形成一第一浅掺杂区与一第二浅掺杂区。此外，于闸绝缘层与闸极层上形成一保护层，保护层与闸绝缘层中具有一第一接触窗开口与一第二接触窗开口。接着，对暴露出之第一浅掺杂区与第二浅掺杂区进行一第二掺杂制程，以分别形成一源极区与一汲极区。之后，于保护层上形成一源极层与一汲极层。