曝光装置之调整方法、曝光装置、以及元件制造方法

摘要

调整方法，系调整液浸曝光装置(EX)，该液浸曝光装置(EX)具有保持基板(P)之保持具(2H)、及在以保持具(2H)保持基板(P)前保持基板(P)之保持具(8H)，透过液体(LQ)使保持具(2H)所保持之基板(P)曝光。调整方法，包含以保持具(2H)保持温度计(30)的动作，以保持具(8H)保持温度计(30)的动作，及根据保持具(2H)所保持之温度计(30)的检测结果、与保持具(8H)所保持之温度计(30)的检测结果、调整保持具(2H)及保持具(8H)之至少一者之温度的动作。