| 发明名称 | 一种面阵曝光装置及其曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种面阵曝光装置及其曝光方法，方法包括如下步骤：移动步骤：面阵曝光装置的曝光头在第N曝光位置处对待曝光图像的第N图像块进行曝光后移动到相邻的第N+1预设曝光位置附近，其中N为正整数；检测调整步骤：检测曝光头所停止的位置，判断是否可以实现相邻图像块的完整像素拼接，如果可以则进入曝光步骤，如果不可以则对曝光头的位置进行微调，以实现相邻图像块的完整像素拼接再进入曝光步骤；曝光步骤：在第N+1实际曝光位置处对第N+1图像块进行曝光，第N+1图像块的起点衔接第N图像块的终点；重复上述步骤，直至将待曝光图像曝光完毕。本发明对曝光头的位置调整范围控制在像素的宽度内，大幅度减少定位时间，提高曝光效率。 | ||
| 申请公布号 | CN101419390A | 申请公布日期 | 2009.04.29 |
| 申请号 | CN200810217475.0 | 申请日期 | 2008.11.17 |
| 申请人 | 深圳市大族激光科技股份有限公司;深圳市大族数码影像技术有限公司 | 发明人 | 高云峰;孙海翔 |
| 分类号 | G03B27/32(2006.01)I;G03B27/52(2006.01)I;G03B27/72(2006.01)I | 主分类号 | G03B27/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳创友专利商标代理有限公司 | 代理人 | 郭晓芬 |
| 主权项 | 1. 一种面阵曝光装置的曝光方法，其特征在于，包括如下步骤：移动步骤：面阵曝光装置的曝光头在第N曝光位置处对待曝光图像的第N图像块进行曝光后移动到相邻的第N+1预设曝光位置附近，其中N为正整数；检测调整步骤：检测曝光头所停止的位置，判断曝光头所停止的位置是否为像素的整数倍，如果是则进入曝光步骤，如果不是则对曝光头的位置进行微调，以使曝光头停止在像素的整数倍位置再进入曝光步骤；曝光步骤：在第N+1实际曝光位置处对第N+1图像块进行曝光，所述第N+1图像块的起点衔接第N图像块的终点；重复上述步骤，直至将待曝光图像曝光完毕。 | ||
| 地址 | 518057广东省深圳市南山区高新科技园松坪山工厂区5号路8号 | ||