发明名称 限定用于保持流体或感光材料的容积的装置的制造方法
摘要 本发明涉及一种制造至少一种限定用于保持流体或感光材料的容积(8)的装置(2,30,48)的方法,所述流体或感光材料能够通过施加电压改变其物理特性特别是光学特性,或者通过施加应力或辐射改变其电特性,所述装置(2,30,48)包括彼此保持恒定距离的至少第一正面基片(4,38,56)和至少第二背面基片(6,32,50),这两个基片(6,32,50;4,38,56)通过限定用于保持感光介质或流体的容积的密封接合(24,46,72)而接合,所述方法的特征在于其包括以下步骤:在基片之一(6,32,50)上构造至少一壁(12,44,66),所述壁通过内侧面限定用于保持感光介质或流体的容积(8);将第二基片(4,38,56)接合到第一基片(6,32,50)上;引入能够流入由壁(12,44,66)的外侧面和两个叠置的基片(6,32,50;4,38,56)限定的间隙(22)的密封材料,直到所述间隙(22)的至少部分容积充有密封材料;以及固化密封材料以使其形成密封框(26,46,72)。
申请公布号 CN100483222C 申请公布日期 2009.04.29
申请号 CN03814513.8 申请日期 2003.06.10
申请人 阿苏拉布股份有限公司 发明人 G·雷-梅尔-梅特
分类号 G02F1/1339(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I 主分类号 G02F1/1339(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 杨晓光;李 峥
主权项 1. 一种制造至少一个限定用于保持流体或感光材料的容积(8)的装置(2,30,48)的方法,所述流体或感光材料能够通过施加电压改变其物理特性,特别是光学特性,或者通过施加应力或辐射改变其电特性,所述装置(2,30,48)包括彼此保持恒定距离的至少第一正面基片(4,38,56)和至少第二背面基片(6,32,50),这两个所述基片(6,32,50;4,38,56)通过限定用于保持所述感光材料或流体的所述容积(8)的密封框(24,46,72)而接合,所述方法的特征在于,其包括以下步骤:在所述基片之一(6,32,50)上构造由彼此相隔一定距离地延伸的两壁(10,12)限定的至少一个填充沟道(20);将所述第二背面基片(6,32,50)接合到所述第一正面基片(4,38,56)上;引入能够流入所述填充沟道(20)的密封材料,直到填满所述填充沟道(20)的整个容积;以及固化所述密封材料以使其形成所述密封框(26,46,72)。
地址 瑞士马林