镀膜设备及其镀膜方法

摘要

本发明提供一种镀膜设备，其包括一承载装置，其具有多个承载座，以承载多个欲镀膜的基板；一镀膜源，其与所述承载装置相对而设；以及一监控装置，其与所述镀膜源相对并靠近于承载座设置，包括一相对于镀膜源的距离可调整的监控晶片，且监控晶片镀膜厚度与基板的镀膜厚度成一比值。因而，镀膜设备可通过调整监控晶片高度，以改变监控晶片镀膜厚度与基板的镀膜厚度所成比值，使监控晶片能即时监控镀膜厚度。本发明提供的镀膜设备特别适用于薄膜厚度多样化的产品，能对不同镀膜厚度分别进行精密控制。

主权项

1. 一种镀膜设备，其包括：一承载装置，其具有多个承载座，以承载多个欲镀膜的工件；一镀膜源，其与所述承载装置相对而设；以及一监控装置，其与所述镀膜源相对并靠近于工件设置的；其特征在于：所述监控装置包括至少一相对于镀膜源的距离可调整的监控晶片，其镀膜厚度与工件的镀膜厚度成一比值。