发明名称 |
量子点光调制器有源区结构 |
摘要 |
一种量子点光调制器有源区结构,包括:一n型衬底;一n型缓冲层生长于n型衬底之上,该n型缓冲层的生长可有效防止衬底缺陷向外延层扩展;一第一未掺杂层生长于n型缓冲层之上,提供了外加电压的作用空间;一量子点层生长于第一未掺杂层上面;一第二未掺杂层生长于量子点层之上;一势垒层生长于第二未掺杂层之上;一第三未掺杂层生长于势垒层之上,提供了外加电压的作用空间;一p型掺杂层,该p型掺杂层生长于第三未掺杂层之上,是这一结构的表面层,可用于引出正面电极。 |
申请公布号 |
CN101414063A |
申请公布日期 |
2009.04.22 |
申请号 |
CN200710175972.4 |
申请日期 |
2007.10.17 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
梁志梅;金鹏;王占国 |
分类号 |
G02F1/017(2006.01)I;G02F1/015(2006.01)I;G02F1/01(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/017(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汤保平 |
主权项 |
1、一种量子点光调制器有源区结构,其特征在于,其中包括:一n型衬底,在该n型衬底上进行材料生长;一n型缓冲层,该n型缓冲层生长于n型衬底之上,该n型缓冲层的生长可有效防止衬底缺陷向外延层扩展;一第一未掺杂层,该第一未掺杂层生长于n型缓冲层之上,提供了外加电压的作用空间;一量子点层,该量子点层生长于第一未掺杂层上面;一第二未掺杂层,该第二未掺杂层生长于量子点层之上;在上述第一未掺杂层与第二未掺杂层共同作用下,在该量子点层内将形成三维量子化的分立能级;一势垒层,该势垒层生长于第二未掺杂层之上;该第二未掺杂层作为间隔层将量子点层和势垒层分开,同时在外加电场的作用下与势垒层形成空穴势阱;一第三未掺杂层,该第三未掺杂层生长于势垒层之上,提供了外加电压的作用空间;所述势垒层的带隙大于第二未掺杂层以及第三未掺杂层的带隙;一p型掺杂层,该p型掺杂层生长于第三未掺杂层之上,是这一结构的表面层,可用于引出正面电极。 |
地址 |
100083北京市海淀区清华东路甲35号 |