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经营范围
发明名称
Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号
EP1265105(B1)
申请公布日期
2009.04.22
申请号
EP20020253824
申请日期
2002.05.30
申请人
ASML NETHERLANDS B.V.
发明人
HOL, SVEN ANTOIN JOHAN;BUIS, EDWIN JOHAN;DE WEERDT, ROBRECHT EMIEL MARIA LEONIA
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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