处理装置及处理方法

摘要

本发明提供一种处理装置及处理方法，该处理装置(40)具有：在内部设有用于载置被处理体的载置台的处理容器(42)、具有用于排出处理容器(42)内的气体介质的真空泵(70、72)与压力控制阀(68)的排气系统(64)、具有设于处理容器(42)内的气体喷射孔(102)的气体喷射部件(98)，向气体喷射部件(98)供给处理气体的气体供给部件(100)。由控制部件(114)控制整个装置(40)。控制部件(114)控制排气系统(64)和气体供给部件(100)，在开始规定的处理时，由排气系统(64)排出处理容器(42)内的气体介质，并且在短时间供给比规定流量大的流量的处理气体，然后，供给规定流量的处理气体。

主权项

1. 一种处理装置，该处理装置使用规定流量的处理气体对被处理体进行规定处理，其特征在于，该处理装置包括处理容器、排气系统、气体喷射部件、气体供给部件及控制部件，该处理容器在内部设有用于载置上述被处理体的载置台；该排气系统具有用于排出上述处理容器内的气体介质的真空泵与压力控制阀；该气体喷射部件具有向上述处理容器内喷射上述处理气体的气体喷射孔；该气体供给部件一边对上述气体喷射部件进行流量控制，一边供给上述处理气体；该控制部件控制整个装置；上述控制部件控制排气系统和气体供给部件，在开始上述规定处理时，一边利用排气系统排出上述处理容器内的气体介质，一边以规定的短时间供给比上述规定处理时的规定流量大的流量的处理气体，然后，从气体流路供给上述规定流量的处理气体。