星型点阵结构的涂胶显影设备

摘要

本实用新型涉及用以在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影工艺处理设备的结构。设备由盒站模块、第一涂胶或显影模块、第二涂胶或显影模块、第一热处理模块、第二热处理模块、传送机器人模块6个功能模块组成，所述的盒站模块是由2个盒站单元和1个对中调整单元组成；所述的第一热处理模块或第二热处理模块是由热处理塔架和多个插装在塔架中的热处理单元体组成；所述的6个功能模块组成六边形的星形点阵结构，2个盒站单元、2个热处理模块、2个涂胶或显影模块分别占据六边形的六个顶点，1个传送机器人在中心。这样的结构可满足大陆中小型生产线市场对该产品的工艺生产质量、产能、技术拓展性和可维护性的需求。

主权项

1、一种星型点阵结构的涂胶显影设备，其特征是：由盒站模块、第一涂胶或显影模块、第二涂胶或显影模块、第一热处理模块、第二热处理模块、传送机器人模块6个功能模块组成，所述的盒站模块是由第一盒站单元、第二盒站单元和1个对中调整单元组成；所述的第一热处理模块或第二热处理模块是由热处理塔架和多个插装在塔架中的热处理单元体组成；所述的2个盒站单元、2个热处理模块、2个涂胶或显影模块分别占据六边形的六个顶点，1个传送机器人在中心，这样的六边形模块布局组成了星型点阵排布的涂胶显影设备结构。