形成纳米图案的方法和具有使用该方法形成的图案的基板

摘要

本发明涉及纳米图案的形成方法，并且，更具体而言，涉及在大面积上连续形成纳米图案的方法和在辊形基板上形成纳米图案的方法以及具有使用该方法形成的图案的基板。使用相对移动大面积样品和干涉光光源的方法以及通过干涉光光源和辊形基板的相对轴向运动同时旋转辊形基板来进行曝光的方法来避免在相关领域中发生的问题，例如在形成纳米图案过程中装置所需的大空间、激光的有限输出和图案中有限的自由度。

主权项

1、一种形成图案的方法，所述方法包括：A)在基板上形成光敏树脂层；B)通过相对移动在其上面形成光敏树脂层的基板和干涉光光源而根据由干涉光形成的图案选择性曝光光敏树脂层；和C)通过显影选择性曝光的光敏树脂层而在光敏树脂层上形成图案。