定点式厚膜真空溅镀设备

摘要

本实用新型涉及一种定点式厚膜真空溅镀设备，包括有至少一支撑框架，系由复数个矩形框体与复数个杆体所组立之立体框架；至少一制程室，系设置于该支撑框架上，其内部之两相对侧设置有内部传动装置，并于该内部传动装置上方设置有感应装置；至少一磁控室，系设置于该制程室上方，其内部设有具复数个溅镀靶材之溅镀阴极，并于外围设有复数个补强肋；至少一制程室闸门阀，系设置于该制程室外部之一侧；藉此可达到定点式溅镀的目的，以改善连续式溅镀设备用于厚膜制程的缺失，故可节省生产成本并提升厚膜溅镀效率。

主权项

1. 一种定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：它包括：至少一支撑框架，系由复数个矩形框体与复数个杆体所组立之立体框架；至少一制程室，系设置于该支撑框架上，其内部之二相对侧设置有内部传动装置，并于该内部传动装置上方设置有感应装置；至少一磁控室，系设置于该制程室上方，其内部设有具复数个溅镀靶材之溅镀阴极，并于外围设有复数个补强肋；至少一制程室闸门阀，系设置于该制程室外部之一侧。