| 发明名称 | 在形成外延膜期间使用的气体歧管 | ||
| 摘要 | 本发明提供关于形成外延膜的方法、系统与设备，其包括适于形成外延层在基板上的外延腔；适于提供至少一沉积气体与一载气给该外延腔的沉积气体歧管；以及蚀刻剂气体歧管，其与该沉积气体歧管分离，且适于提供至少一蚀刻剂气体与载气给该外延腔。此外还揭示许多其它方面。 | ||
| 申请公布号 | CN101415859A | 申请公布日期 | 2009.04.22 |
| 申请号 | CN200780012516.6 | 申请日期 | 2007.04.06 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | D·伊西卡瓦;C·R·梅茨纳;A·佐嘉吉;Y·金;A·V·萨蒙罗弗 |
| 分类号 | C23C16/00(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 陆 嘉 |
| 主权项 | 1. 一种外延膜形成系统，其至少包括：适于在基板上形成外延层的外延腔；适于提供至少一沉积气体与一载气给该外延腔的沉积气体歧管；以及与该沉积气体歧管分离且适于提供至少一蚀刻剂气体与一载气给该外延腔的蚀刻剂气体歧管。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||