发明名称 |
用于洁齿的高清洁性、低磨损、高亮度二氧化硅材料 |
摘要 |
提供了原位产生沉淀二氧化硅和硅胶组合物的独特磨料。这种组合物显示不同的优点,尤其是同时具有高菌膜清洁性和中等的牙本质磨损水平。因此,该结果为使用者提供了能有效清洁牙齿表面而不有害磨损牙齿表面的洁齿产品。而且,所得磨料还显示非常高和所需的亮度性质,能容易地包含和应用到牙齿产品内以实现美学目的。本发明包括出于所述目的制备这种硅胶/沉淀二氧化硅复合材料的独特方法,特别是在高剪切条件下,以及具有上述不同结构化程度的各种材料和包含该材料的洁齿产品。 |
申请公布号 |
CN101405055A |
申请公布日期 |
2009.04.08 |
申请号 |
CN200780010189.0 |
申请日期 |
2007.03.20 |
申请人 |
J.M.休伯有限公司 |
发明人 |
P·D·麦克吉尔 |
分类号 |
A61Q11/00(2006.01)I;C01B33/12(2006.01)I |
主分类号 |
A61Q11/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
顾 敏 |
主权项 |
1.一种硅胶/沉淀二氧化硅组合,所述组合的特科尼因亮度至少为95.5,并且当以20重量%的量掺入洁齿组合物中时,所述洁齿产品的RDA至多为120,PCR∶RDA的比率为0.7-1.0。 |
地址 |
美国新泽西州 |