发明名称 |
Halbleitersubstrat mit Durchkontaktierung und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersubstrates mit Durchkontaktierung |
摘要 |
Die Durchkontaktierung des Substrates wird durch eine Kontaktlochfüllung (4) einer Halbleiterschicht (11) und eine Metallisierung (17) einer Ausnehmung (16) in einer rückseitigen Halbleiterschicht (13) gebildet, wobei die Halbleiterschichten durch eine vergrabene Isolationsschicht (12) voneinander getrennt sind, an deren Schichtlage die Kontaktlochfüllung beziehungsweise die Metallisierung jeweils endet. |
申请公布号 |
DE102007034306(B3) |
申请公布日期 |
2009.04.02 |
申请号 |
DE20071034306 |
申请日期 |
2007.07.24 |
申请人 |
AUSTRIAMICROSYSTEMS AG |
发明人 |
SCHRANK, FRANZ;SCHREMS, MARTIN;KRAFT, JOCHEN |
分类号 |
H01L21/283;H01L21/60;H01L27/12 |
主分类号 |
H01L21/283 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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