发明名称 |
半导体装置,光罩,半导体装置之制造方法及图案布局方法 |
摘要 |
本发明之半导体装置具备有多个线图案LN和线垫图案PD。线图案LN经由空间图案SP重复配置。线垫图案PD跨越多行之线图案LN。该线垫图案PD与多行之一行中位于线垫图案PD一侧之线图案LN连接,与多行之另一行中位于线垫图案PD另一侧之线图案LN连接,且在另一行中位于线垫图案PD一侧之线图案LN具有断线部分DC。利用此种方式,可提供一种低成本和良好精确度形成有具有微细线和空间状(line-and-space-shape)之线图案和线垫图案之布线图案的半导体装置及其制造方法、及其制造所使用之光罩。 |
申请公布号 |
TW200915390 |
申请公布日期 |
2009.04.01 |
申请号 |
TW097130011 |
申请日期 |
2008.08.07 |
申请人 |
瑞萨科技股份有限公司;力晶半导体股份有限公司 |
发明人 |
齐藤隆幸;石桥健夫;金井达 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01);G03F1/08(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 |
主权项 |
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地址 |
新竹市科学工业园区力行一路12号 |