发明名称 形成穿过基板之互连的方法
摘要 本发明提供一种形成一穿过基板之互连的方法,该方法包括形成一进入一半导体基板中之通路。该通路延伸进入该基板之半导电材料中。涂覆一液体介电质,以相对于初始形成该通路之基板之一侧面,衬垫该通路之侧壁之至少一立面最外部分。该液体介电质在该通路内固化。在该通路内,于固化介电质上形成导电材料,且以该导电材料形成一穿过基板之互连。
申请公布号 TW200915487 申请公布日期 2009.04.01
申请号 TW097131015 申请日期 2008.08.14
申请人 美光科技公司 发明人 大卫 普拉提;安帝 派金斯
分类号 H01L21/768(2006.01);H01L23/535(2006.01) 主分类号 H01L21/768(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国