发明名称 研磨垫调节器及研磨垫的调节方法
摘要 一种研磨垫调节器,其包括底层、至少一个表面调节单元以及至少一个沟槽清除单元。表面调节单元与沟槽清除单元皆配置于底层之表面上。此外,表面调节单元与沟槽清除单元为一体成形的构形。
申请公布号 TW200914202 申请公布日期 2009.04.01
申请号 TW096134871 申请日期 2007.09.19
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 王大仁;陈顺镒;刘庆冀;张双燻
分类号 B24B53/007(2006.01);B24B37/00(2006.01) 主分类号 B24B53/007(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号
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