发明名称 | 研磨垫调节器及研磨垫的调节方法 | ||
摘要 | 一种研磨垫调节器,其包括底层、至少一个表面调节单元以及至少一个沟槽清除单元。表面调节单元与沟槽清除单元皆配置于底层之表面上。此外,表面调节单元与沟槽清除单元为一体成形的构形。 | ||
申请公布号 | TW200914202 | 申请公布日期 | 2009.04.01 |
申请号 | TW096134871 | 申请日期 | 2007.09.19 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 王大仁;陈顺镒;刘庆冀;张双燻 |
分类号 | B24B53/007(2006.01);B24B37/00(2006.01) | 主分类号 | B24B53/007(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号 |