用于选择性预涂等离子处理室的方法和装置

摘要

公开一种用于选择性预涂包含室壁的等离子处理室的装置。该装置包含第一RF电极组，该第一RF电极组配置为激发第一预涂等离子，该第一RF电极组限定第一等离子室区域。该装置还包含围绕该第一RF电极组设置的第一限制环组；以及设置在该第一限制环组和该室壁之间的第二限制环组。该装置进一步包含气体传输系统，该系统配置为当传输第一预涂气体且施加能量于该第一RF电极时将第一预涂层应用至该第一等离子区域。该装置还包含该气体传输系统，该系统配置为当传输第二预涂气体且施加能量于该第二RF电极组时将第二预涂层应用至该第二等离子区域。

主权项

1. 一种用于选择性预涂包含室壁的等离子处理室的装置，包含：第一RF电极组，所述第一RF电极组配置为激发第一预涂等离子，所述第一RF电极组限定第一等离子室区域；第一限制环组，其环绕所述第一RF电极组设置；第二限制环组，其设置在所述第一限制环组和所述室壁之间；和气体传输系统，其配置为当传输第一预涂气体且施加能量于所述第一RF电极组时将第一预涂层应用至所述第一等离子区域。