来源气体供给装置及方法

摘要

本发明系提供于以化学蒸镀法进行薄膜蒸镀时所使用之来源气体供给装置及方法。本发明之来源气体供给装置包含：来源物质储存部，系储存来源气体的原料之来源物质者；来源物质蒸发部，系加热来源物质以产生来源气体者；来源物质供给管，系将储存于来源物质储存部之来源物质供给至来源物质蒸发部者；及来源物质控制部，系设于来源物质供给管上，以将预定量之来源物质供给至来源物质蒸发部者。