发明名称 用于控制制造程序的方法及系统
摘要 一种用于控制电子电路的制造程序之方法、系统、及电脑程式产物。该方法包括:计算出被预期互相对齐的电子电路之多层之间的至少一层歪斜,其中这些层系藉由至少一个直接成像装置所制造,直接成像装置系用以使光阻材料暴露于辐射下而产生图案;对应于至少一层歪斜以及至少一个可允许的歪斜临界值,而从制造该电子电路的至少一额外层及停止该电子电路的制造程序之间选择一个选定的反应;以及参与实施该选定的反应。
申请公布号 TW200913822 申请公布日期 2009.03.16
申请号 TW097127769 申请日期 2008.07.22
申请人 肯提克有限公司 发明人 艾麦特 瑞费
分类号 H05K3/00(2006.01);G05B15/02(2006.01) 主分类号 H05K3/00(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 以色列