发明名称 |
微影装置及器件制造方法 |
摘要 |
本发明揭示一种微影装置及方法,其用以藉由在一基板上预(或后)曝光一或多个边缘器件而减少该基板在一主要微影装置内所耗费之曝光时间。因为一边缘器件不最终产出一有用器件,所以可运用一第一微影器件而使该边缘器件曝光,该第一微影器件之解析度的低于用以曝光自该基板所产生之其他完整器件中之一或多者之解析度。因此,可使用一较不复杂且较不昂贵之微影器件来执行一边缘器件之该预(或后)曝光。 |
申请公布号 |
TW200912559 |
申请公布日期 |
2009.03.16 |
申请号 |
TW097130414 |
申请日期 |
2008.08.08 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
裘朵卡斯 玛利 多明尼克斯 史托卓杰;爱立克 罗劳夫 罗斯崔;詹 博纳 普雷恰玛;德瑞克 贞 马斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |