发明名称 增强化学性之负型光阻组成物及图型之形成方法
摘要 本发明系有关一种化学增幅型负型光阻组成物,其特征为含有含以下述一般式(1)及一般式(2)所示之重复单位、重量平均分子量为1,000~50,000之高分子化合物,#P 097111189P01.bmp#P 097111189P02.bmp(式中,R#sP!1#eP!、R#sP!2#eP!系各独立表示氢原子或甲基,X系表示电子吸引基。另外,m系表示0或1~4之整数,n系表示1~5之整数)本发明之效果,系藉由使用含有含羟基苯乙烯单位与经电子吸引基取代的苯乙烯单位作为重复单位之高分子化合物的化学增幅型负型光阻组成物,可形成即使形成较0.1μm更为微细的图型时,亦不易发生在图型间光阻会形成电桥的问题、且具有高解像性之光阻膜。
申请公布号 TW200912536 申请公布日期 2009.03.16
申请号 TW097111189 申请日期 2008.03.28
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 武田隆信;渡边保;小板桥龙二;增永惠一;田中启顺;渡边修
分类号 G03F7/038(2006.01);G03F7/027(2006.01);C08F12/24(2006.01);C08F12/04(2006.01);C08F32/08(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/038(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本