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发明名称 Verfahren zur lithgraphischen Herstellung einer Struktur in einer strahlungsempfindlichen Schicht und ein strukturiertes Halbleitersubstrat mit Oberflächenstruktur
摘要
申请公布号 DE102004041679(B4) 申请公布日期 2009.03.12
申请号 DE200410041679 申请日期 2004.08.20
申请人 QIMONDA AG 发明人 NUETZEL, JOACHIM;MUEMMLER, KLAUS;THIES, ANDREAS;KAMM, FRANK-MICHAEL
分类号 H01L21/8242;G03F7/00;G03F7/09;H01L21/308 主分类号 H01L21/8242
代理机构 代理人
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