扫描型曝光装置、微元件的制造方法、光掩模、投影光学装置以及光掩模的制造方法

摘要

一种扫描型曝光装置，使用配置于扫描方向前方侧的第1投影光学系统PL2及配置于扫描方向后方侧的第2投影光学系统PL1，一边改变第1投影光学系统及第2投影光学系统与第1物体M及第2物体P在扫描方向上的位置关系，一边将第1物体的图案转印曝光至第2物体上，且第1投影光学系统及第2投影光学系统分别将第1物体上的视场内的放大像形成于第2物体上的像场内，当将第1投影光学系统及第2投影光学系统的视场的中心彼此在扫描方向上的间隔设为Dm，将第1投影光学系统及第2投影光学系统的像场的中心彼此在上述扫描方向上的间隔设为Dp，且将第1投影光学系统及第2投影光学系统各自的投影倍率设为β时，满足Dp＜Dm×|β|(其中，|β|＞1)。

主权项

1. 一种扫描型曝光装置，使用配置于扫描方向前方侧的第1投影光学系统及配置于上述扫描方向后方侧的第2投影光学系统，一边改变上述第1投影光学系统及上述第2投影光学系统与第1物体及第2物体在上述扫描方向上的位置关系，一边将上述第1物体的图案曝光转印在上述第2物体上，上述扫描型曝光装置的特征在于:上述第1投影光学系统及上述第2投影光学系统，分别将第1物体上的视场内的放大像形成于第2物体上的像场内，当将上述第1投影光学系统及上述第2投影光学系统的上述视场的中心彼此在上述扫描方向上的间隔设为Dm，将上述第1投影光学系统及上述第2投影光学系统的上述像场的中心彼此在上述扫描方向的间隔设为Dp，且将上述第1投影光学系统及上述第2投影光学系统各自的投影倍率设为β时，满足Dp1)。