发明名称 化学机械晶圆抛光设备的清洁刷升降装置
摘要 公开了一种化学机械晶圆抛光设备的清洁刷升降装置,所述清洁刷升降装置使用于清洁晶圆上的杂质的清洁刷上下升降,并且所述清洁刷升降装置包括:机架;基准刷,所述基准刷由所述机架可旋转地支撑;升降块,所述升降块安装在所述机架上,以使所述升降块能够上下升降;升降刷,所述升降刷可旋转地安装在所述升降块上,所述升降刷与所述升降块一起升降,同时靠近或远离所述基准刷;以及线性电机,所述线性电机用于升降所述升降块。所述装置可以降低产品的单位成本、生产成本,缩短生产时间。此外,还具有尺寸小、重量轻,并且能够精确地控制升降驱动的优点。
申请公布号 CN101380723A 申请公布日期 2009.03.11
申请号 CN200710147699.4 申请日期 2007.09.07
申请人 斗山MECATEC株式会社 发明人 徐昌源;尹晶焕
分类号 B24B29/00(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I;B24B55/00(2006.01)I 主分类号 B24B29/00(2006.01)I
代理机构 北京润平知识产权代理有限公司 代理人 周建秋;王凤桐
主权项 1、一种化学机械晶圆抛光设备的清洁刷升降装置,所述清洁刷升降装置使用于清洁晶圆上的杂质的清洁刷上下升降,并且所述清洁刷升降装置包括:机架;基准刷,所述基准刷由所述机架可旋转地支撑;升降块,所述升降块安装在所述机架上,以使所述升降块能够上下升降;升降刷,所述升降刷可旋转地安装在所述升降块上,所述升降刷与所述升降块一起升降,以使所述升降刷靠近或远离所述基准刷;以及线性电机,所述线性电机用于使所述升降块上下升降。
地址 韩国庆尚南道