发明名称 |
化学机械晶圆抛光设备的清洁刷升降装置 |
摘要 |
公开了一种化学机械晶圆抛光设备的清洁刷升降装置,所述清洁刷升降装置使用于清洁晶圆上的杂质的清洁刷上下升降,并且所述清洁刷升降装置包括:机架;基准刷,所述基准刷由所述机架可旋转地支撑;升降块,所述升降块安装在所述机架上,以使所述升降块能够上下升降;升降刷,所述升降刷可旋转地安装在所述升降块上,所述升降刷与所述升降块一起升降,同时靠近或远离所述基准刷;以及线性电机,所述线性电机用于升降所述升降块。所述装置可以降低产品的单位成本、生产成本,缩短生产时间。此外,还具有尺寸小、重量轻,并且能够精确地控制升降驱动的优点。 |
申请公布号 |
CN101380723A |
申请公布日期 |
2009.03.11 |
申请号 |
CN200710147699.4 |
申请日期 |
2007.09.07 |
申请人 |
斗山MECATEC株式会社 |
发明人 |
徐昌源;尹晶焕 |
分类号 |
B24B29/00(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I;B24B55/00(2006.01)I |
主分类号 |
B24B29/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京润平知识产权代理有限公司 |
代理人 |
周建秋;王凤桐 |
主权项 |
1、一种化学机械晶圆抛光设备的清洁刷升降装置,所述清洁刷升降装置使用于清洁晶圆上的杂质的清洁刷上下升降,并且所述清洁刷升降装置包括:机架;基准刷,所述基准刷由所述机架可旋转地支撑;升降块,所述升降块安装在所述机架上,以使所述升降块能够上下升降;升降刷,所述升降刷可旋转地安装在所述升降块上,所述升降刷与所述升降块一起升降,以使所述升降刷靠近或远离所述基准刷;以及线性电机,所述线性电机用于使所述升降块上下升降。 |
地址 |
韩国庆尚南道 |