| 摘要 |
本发明提供光罩毛胚及光罩之制造方法，经由提高遮光膜之乾式蚀刻速度，可以缩短乾式蚀刻时间，藉以降低抗蚀剂膜之膜减小。结果，可以进行抗蚀剂膜之薄膜化(300nm以下)，可以提高图案之解像度，图案精确度(CD精确度)。另外，利用乾式蚀刻时间之缩短可以形成剖面形状良好之遮光膜之图案。在透光性基板上具有遮光膜之光罩毛胚中，上述光罩毛胚系与光罩之制作方法对应之乾式蚀刻处理用的光罩毛胚，该制作方法系以形成在上述遮光膜上之抗蚀剂图案作为遮罩，利用乾式蚀刻处理，对上述遮光膜进行图案化，上述遮光膜由在上述乾式蚀刻处理时，与上述抗蚀剂之选择比超过1之材料构成。 |
