| 摘要 |
本发明之一是一种光学膜平面化方法，为了缓和反射多层膜（12）的应力，在透明基板（10）的被成膜面（10S）和被磨面（10R）使面粗度具有差别，在被成膜面（10S）上形成反射多层膜（12），被磨面（10R）毛面化后形成毛面（13）。由于反射多层膜（12）具有膜应力，因此向被成膜面（10）方向凸出的歪曲产生，并且透过形成毛面（13），基于泰曼效应的应力起作用而向毛面（13）方向凸出的歪曲产生。膜应力和由毛面形成所引起的应力，由于向互相相反的方向弯曲，因此，使应力互相抵消，而使反射多层膜（12）平面化。从而，本发明的目的在于，在光学膜形成于薄型基板时，没有形成特别的修正用薄膜，透过对基于光学膜的膜应力进行缓和，来谋求光学膜的平面化。 |
