多层膜形成方法及装置

摘要

本发明揭示了一种多层薄膜形成方法及多层薄膜形成装置，其系可使铅系钙钛矿复合氧化物组成的薄膜之诱电性与压电性提升。该多层薄膜形成方法系包含使用下部电极层靶材(TG2)以溅镀法于基板(S)上方，形成由贵金属所组成之下部电极层(32b)；及使用含铅氧化物层靶材(TG3)以溅镀法于下部电极层(32b)上方层积铅系钙钛矿复合氧化物层(33)。该下部电极层(32b)厚度系规定为10~30nm，而该铅系复合氧化物层(33)之厚度系规定为0.2至5.0μm。