发明名称 Substrates for spatially selective micron and nanometer scale deposition and combinatorial modification and fabrication
摘要
申请公布号 AU2004252184(B2) 申请公布日期 2009.02.26
申请号 AU20040252184 申请日期 2004.06.30
申请人 RAUSTECH PTY LTD 发明人 PETER JOHN HASTWELL;TIMOTHY MARK KAETHNER
分类号 C12M1/34;B01J19/00;C12Q1/68;G01N33/48 主分类号 C12M1/34
代理机构 代理人
主权项
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