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发明名称 Polysiliziumevaluierungsverfahren. Polysiliziuminspektionsvorrichtung und Herstellung eines Dünnschichttransistors
摘要
申请公布号 DE60133057(T2) 申请公布日期 2009.02.26
申请号 DE20016033057T 申请日期 2001.01.03
申请人 SONY CORP. 发明人 WADA, HIROYUKI;HIRATA, YOSHIMI;TAGUCHI, AYUMU;TATSUKI, KOICHI;UMEZU, NOBUHIKO;KUBOTA, SHIGEO;ABE, TETSUO;OOSHIMA, AKIFUMI;HATTORI, TADASHI;TAKATOKU, MAKOTO;SUGANO, YUKIYASU
分类号 H01L21/263;H01L21/66 主分类号 H01L21/263
代理机构 代理人
主权项
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