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发明名称 SPUTTER TARGET WITH SPUTTER MATERIAL BASED ON TIO2, AND A PRODUCTION METHOD
摘要
申请公布号 EP2027302(A1) 申请公布日期 2009.02.25
申请号 EP20070725867 申请日期 2007.06.06
申请人 W. C. HERAEUS GMBH 发明人 WEIGERT, MARTIN;SIMONS, CHRISTOPH;MAENNLE, ECKEHARD
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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