发明名称 |
发光半导体元件的制造方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于制作发光半导体元件的方法,这种元件的半导体本体由一个若干不同的Ⅲ-Ⅴ族-氮化物-半导体层(1)的层叠构成并具有第一个主面(3)和第二个主面(4),其中,产生的辐射的至少一部分通过该第一主面输出,且该第二主面具有一个反射器,其特征为,这些Ⅲ-Ⅴ族-氮化物-各层被设置在一个复合衬底上,该复合衬底具有一个衬底本体和一层夹层,其中,该衬底本体的热膨胀系数相似于或最好大于Ⅲ-Ⅴ族-氮化物-各层的热膨胀系数,且Ⅲ-Ⅴ族-氮化物-各层淀积在该夹层上。 |
申请公布号 |
CN100464438C |
申请公布日期 |
2009.02.25 |
申请号 |
CN200610136532.3 |
申请日期 |
2001.03.16 |
申请人 |
奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
发明人 |
S·巴德尔;B·哈恩;V·海勒;H·-J·卢高尔;M·蒙德布罗德-范格罗;D·埃塞尔特 |
分类号 |
H01L33/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L33/00(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
蔡民军;胡强 |
主权项 |
1.用于制作发光半导体元件的方法,这种元件的半导体本体由一个若干不同的III-V族-氮化物-半导体层(1)的层叠构成并具有第一个主面(3)和第二个主面(4),其中,产生的辐射的至少一部分通过该第一主面输出,且该第二主面具有一个反射器,其特征为,将这些III-V族-氮化物-半导体层设置在一个复合衬底上,该复合衬底具有一个衬底本体和一层夹层,其中,该衬底本体的热膨胀系数相似于或大于III-V族-氮化物-半导体层的热膨胀系数,且III-V族-氮化物-半导体层淀积在该夹层上,该夹层通过晶片压焊方法压焊到该衬底本体上。 |
地址 |
德国雷根斯堡 |