发明名称 |
单次可编程存储器及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种单次可编程存储器及其制造方法。单次可编程存储器包含了设置于基底上的存储单元,基底中具有阶梯状的开口,开口具有上层的阶部与下层的凹陷部。存储单元包含有浮置栅极、选择栅极、第一掺杂区、第二掺杂区与第三掺杂区。其中,浮置栅极设置于凹陷部侧壁,选择栅极设置于阶部侧壁,第一掺杂区设置于凹陷部底部的基底中,第二掺杂区设置于阶部底部的基底中,第三掺杂区则设置于阶部顶端的基底中。 |
申请公布号 |
CN101369580A |
申请公布日期 |
2009.02.18 |
申请号 |
CN200710141154.2 |
申请日期 |
2007.08.13 |
申请人 |
力晶半导体股份有限公司 |
发明人 |
张格荥;张骕远 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01);H01L29/788(2006.01);H01L29/423(2006.01);H01L21/8247(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L21/28(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波 |
主权项 |
1.一种单次可编程存储器,包括:第一存储单元,设置于基底上,该基底中具有阶梯状的开口,该开口包括上层的阶部与下层的凹陷部,该第一存储单元包括:浮置栅极,设置于该凹陷部侧壁;选择栅极,设置于该阶部侧壁;第一掺杂区,设置于该凹陷部底部的该基底中;第二掺杂区,设置于该阶部底部的该基底中;以及第三掺杂区,设置于该阶部顶端的该基底中。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区 |