发明名称 | 一种沉积炉管 | ||
摘要 | 本发明提供一种沉积炉管,包括外管,内管,气体反应腔,气体注入器以及用于承载晶圆的晶舟,所述气体反应腔形成于内管内,晶舟置入气体反应腔内,所述气体注入器包括岐管及装设于岐管上的复数喷嘴,岐管上形成有复数安装通孔,安装通孔上设有一缺槽;所述喷嘴对应所述缺槽的位置处形成有一凸台,所述凸台收容于所述缺槽内,如此设计的气体注入器使得喷嘴在岐管内的位置相对固定,输入反应腔的气体依预设浓度分布,化学反应后沉积在晶圆上的薄膜层厚度分布均匀,提高了产品的良率。 | ||
申请公布号 | CN101368289A | 申请公布日期 | 2009.02.18 |
申请号 | CN200710044854.X | 申请日期 | 2007.08.14 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 董彬;宋大伟;赵星;郝学涛 |
分类号 | C30B25/08(2006.01) | 主分类号 | C30B25/08(2006.01) |
代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 王洁 |
主权项 | 1.一种沉积炉管,其结构包括外管,内管,气体反应腔,气体注入器以及用于承载晶圆的晶舟,所述气体反应腔形成于内管内,所述晶舟置入气体反应腔内,所述气体注入器可将半导体制程所需的气体输送至气体反应腔内,其特征在于:所述气体注入器包括岐管及装设于岐管上的复数喷嘴,岐管上形成有复数用于安装所述喷嘴的安装通孔,且在所述岐管内壁上开设有与所述安装通孔相连的预定深度的缺槽,所述碰嘴对应所述缺槽于外表面上形成有凸台,所述凸台收容于所述缺槽内。 | ||
地址 | 201203上海市浦东新区张江路18号 |