发明名称 一种沉积炉管
摘要 本发明提供一种沉积炉管,包括外管,内管,气体反应腔,气体注入器以及用于承载晶圆的晶舟,所述气体反应腔形成于内管内,晶舟置入气体反应腔内,所述气体注入器包括岐管及装设于岐管上的复数喷嘴,岐管上形成有复数安装通孔,安装通孔上设有一缺槽;所述喷嘴对应所述缺槽的位置处形成有一凸台,所述凸台收容于所述缺槽内,如此设计的气体注入器使得喷嘴在岐管内的位置相对固定,输入反应腔的气体依预设浓度分布,化学反应后沉积在晶圆上的薄膜层厚度分布均匀,提高了产品的良率。
申请公布号 CN101368289A 申请公布日期 2009.02.18
申请号 CN200710044854.X 申请日期 2007.08.14
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 董彬;宋大伟;赵星;郝学涛
分类号 C30B25/08(2006.01) 主分类号 C30B25/08(2006.01)
代理机构 上海智信专利代理有限公司 代理人 王洁
主权项 1.一种沉积炉管,其结构包括外管,内管,气体反应腔,气体注入器以及用于承载晶圆的晶舟,所述气体反应腔形成于内管内,所述晶舟置入气体反应腔内,所述气体注入器可将半导体制程所需的气体输送至气体反应腔内,其特征在于:所述气体注入器包括岐管及装设于岐管上的复数喷嘴,岐管上形成有复数用于安装所述喷嘴的安装通孔,且在所述岐管内壁上开设有与所述安装通孔相连的预定深度的缺槽,所述碰嘴对应所述缺槽于外表面上形成有凸台,所述凸台收容于所述缺槽内。
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