用于从基片边缘去除副产物组的装置和方法

摘要

本发明披露了一种等离子处理系统，其包括用于处理基片的等离子室。该装置包括卡盘，其被配置为支撑该基片的第一表面。该装置还包括抗等离子阻挡层，其以相关于该基片的第二表面空间隔开的方式进行布置，该第二表面与第一表面相对，该抗等离子阻挡层大体上防护该基片的中间部分，并使得该基片的第二表面的环形周缘区域基本上不受该抗等离子阻挡层防护。该装置进一步包括至少一个通电电极，该通电电极与该抗等离子阻挡层配合运行以由等离子气体产生受限的等离子，该受限的等离子基本上受限于该基片的环形周缘部分并远离该基片的中间部分。

主权项

1.一种等离子处理系统，包括用于处理基片的等离子室，包括：卡盘，其被配置为支撑所述基片的第一表面；抗等离子阻挡层，其以相关于所述基片的第二表面空间隔开的方式而被布置，所述第二表面与所述第一表面相对，所述抗等离子阻挡层基本上防护所述基片的中间部分并使得所述基片的所述第二表面的环形周缘区域基本上不受所述抗等离子阻挡层防护；以及至少一个通电电极，所述通电电极与所述抗等离子阻挡层配合运行以由等离子气体产生等离子，所述等离子基本上受限于所述基片的所述环形周缘区域并且远离所述基片的所述中间部分。