发明名称 薄膜晶体管及其电子器件和制造方法
摘要 提供一种在柔性基底上实现的薄膜半导体器件、使用该器件的电子器件、及其制造方法。该薄膜半导体器件包括一柔性基底、一形成在柔性基底上的半导体芯片、一密封该半导体芯片的保护盖层、以及一形成在该保护盖层上的绝缘区。该电子器件包括一柔性基底和形成在柔性基底上的半导体芯片,还包括密封半导体芯片的保护盖层和形成在该保护盖层上的绝缘区。由于使用了保护盖层,提高了薄膜半导体器件抵抗基底弯曲所产生的应力的耐用性。
申请公布号 CN100462823C 申请公布日期 2009.02.18
申请号 CN200310124902.8 申请日期 2003.12.31
申请人 三星电子株式会社 发明人 金道映;朴玩濬;朴永洙;李俊冀;闵约赛;权章渊;徐顺爱;崔荣敏;蔡洙杜
分类号 G02F1/136(2006.01);H01L29/786(2006.01) 主分类号 G02F1/136(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 李晓舒;魏晓刚
主权项 1.一种薄膜半导体器件,包括:一柔性基底;一形成在该柔性基底上的半导体芯片,该半导体芯片包括源极、漏极和沟道;一绝缘区,形成在该半导体芯片上;一栅极电极,形成在该绝缘区上;一第二绝缘区,形成在该栅极电极上;一源极电极,形成在该第二绝缘区上且与该源极连接;一漏极电极,形成在该第二绝缘区上且与该漏极连接;一保护盖层,形成在该第二绝缘区以及该源极电极和该漏极电极上,且形成在该半导体芯片与该柔性基底之间,其中该保护盖层由紫外固化树脂、X射线固化材料、电子束固化材料和离子束固化材料中的任意一种构成。
地址 韩国京畿道