曝光设备及装置制造方法

摘要

本发明的曝光设备，包括：照明光学系统，配置成以来自光源的光照明原版上的照明区；投射光学系统，配置成将原版的图案投射至基底上；第一平台，配置成固持原版；第二平台，配置成固持基底；及控制器，配置成根据照明区中的位置上的图案的透射率相依性，控制第一平台、第二平台、及形成投射光学系统的光学元件中至少之一的驱动，以降低投射光学系统的成像特征的变化。