发明名称 离子植入设备
摘要 在入射到射束扫描器之前的射束线上配置一注入器旗标法拉第杯,其能够被送入该射束线内及带离该射束线以藉由测量离子束之总射束量来侦测射束电流。当该离子束藉由放置该注入器旗标法拉第杯于射束轨迹线上而被切断时,该离子束照射到设置在该注入器旗标法拉第杯的石墨上。在此时刻,即使当该石墨被该离子束溅击时,由于该注入器旗标法拉第杯被配置在该射束扫描器的上游侧,且该离子束被该注入器旗标法拉第杯切断,故该被溅击之石墨的粒子不会黏附到该注入器旗标法拉第杯的周边构件。
申请公布号 TW200908020 申请公布日期 2009.02.16
申请号 TW097113029 申请日期 2008.04.10
申请人 斯伊恩斯绮艾亚舍立股份有限公司 发明人 月原光国;藤井嘉人
分类号 G21K5/04(2006.01);H01J37/30(2006.01) 主分类号 G21K5/04(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本