发明名称 防反射薄膜,及防反射薄膜之制造方法,使用其之偏光板,及显示装置
摘要 本发明为提供高温高湿下的耐久试验后之耐药品性、密着性、及膜强度(耐擦伤性)之提升,可由1层低折射率层所成的防反射层达成之低成本性且优良之防反射薄膜、使用其之偏光板、及显示装置。该防反射薄膜为,低折射率层含有内部为多孔质或空洞之至少1种中空二氧化矽微粒子,且低折射率层表面(膜面)pH为2.0~7.5,较佳为2.0~4.0。较佳为低折射率层表面(膜面)pH之测定条件为50℃温浴中进行2小时浸渍后。低折射率层含有反应性改性聚矽氧烷树脂、或咪唑或其衍生物者为佳。
申请公布号 TW200907400 申请公布日期 2009.02.16
申请号 TW097109659 申请日期 2008.03.19
申请人 柯尼卡美能达精密光学股份有限公司 发明人 冈野贤
分类号 G02B1/11(2006.01);B32B7/02(2006.01);B32B27/00(2006.01);G02B5/30(2006.01);G02F1/1335(2006.01) 主分类号 G02B1/11(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本