发明名称 一种循环式真空CPU散热装置
摘要 本实用新型公开了一种循环式真空CPU散热装置,包括真空腔(1)和真空管(2),真空腔(1)内设有汽相液(3),真空管(2)两侧各设有一与之相连通的真空腔(1);真空腔(1)内还设有活性炭(5)或活性炭纤维布,在真空管(2)间设有散热铝箔(4);CPU(6)设于真空腔(1)的一侧。本实用新型具有结构简单、散热效率高,工作稳定等特点。
申请公布号 CN201194223Y 申请公布日期 2009.02.11
申请号 CN200820017047.9 申请日期 2008.01.25
申请人 宋洪星 发明人 宋洪星;宋洪刚
分类号 H01L23/34(2006.01);H01L23/427(2006.01);H01L23/367(2006.01);G06F1/20(2006.01);H05K7/20(2006.01) 主分类号 H01L23/34(2006.01)
代理机构 泰安市泰昌专利事务所 代理人 姚德昌
主权项 1.一种循环式真空CPU散热装置,包括真空腔(1)和真空管(2),真空腔(1)内设有汽相液(3),其特征在于:真空管(2)两侧各设有一与之相连通的真空腔(1);真空腔(1)内还设有活性炭(5)/或活性炭纤维布,在真空管(2)间设有散热铝箔(4);CPU(6)设于真空腔(1)的一侧。
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