| 发明名称 | 溅射靶、溅射靶材及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于，提供能够更有效地减少电弧放电发生的溅射靶、适用于所述溅射靶的溅射靶材及其制造方法。溅射靶材是在油分存在的情况下进行了切削加工的溅射靶材，其特征在于，附着在溅射前的该靶材表面上的油膜厚度为1.5nm以下。溅射靶的特征在于，包括所述溅射靶材和背衬板。溅射靶材的制造方法以及溅射靶的制造方法的特征在于，具有使蒸汽接触靶材的表面，从而清洗该靶材表面的清洗工序。 | ||
| 申请公布号 | CN101360844A | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN200680051021.X | 申请日期 | 2006.10.18 |
| 申请人 | 三井金属矿业株式会社 | 发明人 | 小岛丰;松前和男;葛城成吾 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人 | 朱梅;黄丽娟 |
| 主权项 | 1、一种溅射靶材，是在油分存在的情况下进行了切削加工的溅射靶材，其特征在于，附着在溅射前的该靶材表面上的油膜厚度小于等于1.5nm。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||