| 发明名称 | 光照射装置及方法、结晶装置及方法、设备和光调制元件 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光照射装置及方法、结晶装置及方法、设备和光调制元件。光照射装置包括光调制元件(1)，调制入射光束的相位以便获得具有最小光强的底部的V形光强分布，以及成像光学系统(3)，以在照射目标表面上提供V形光强分布的方式，将所调制的光束从光调制元件施加到照射目标表面(4)上。光调制元件具有一复振幅透射率分布，使在成像光学系统的图像空间中，在V形光强分布的底部处，复振幅分布的相位值的二次导数基本上变为零。 | ||
| 申请公布号 | CN101359101A | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN200810145201.5 | 申请日期 | 2005.02.17 |
| 申请人 | 株式会社液晶先端技术开发中心 | 发明人 | 谷口幸夫 |
| 分类号 | G02B27/42(2006.01);C30B28/02(2006.01);H01L21/20(2006.01);H01L21/268(2006.01);B23K26/00(2006.01) | 主分类号 | G02B27/42(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 覃鸣燕;王英 |
| 主权项 | 1.一种光调制元件，调制入射光束的相位以便在照射目标表面上提供V形光强分布，包括：具有彼此不同的固定相位值的至少三种相位区，而且所述相位区的占用面积比根据预定图型改变。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||