| 发明名称 | 从基片去除污染的方法和设备 | ||
| 摘要 | 清洁材料设置在基片上。该清洁材料包括分散在液体媒介内的固体成分。力施加到该液体媒介内的固体成分上以使该固体成分接近该基片上存在的污染物。施加到该固体成分上的力可由该液体媒介内的不溶成分施加。当使该固体成分足够接近该污染物时，在该固体成分和该污染物之间建立相互作用。然后，移动该固体成分远离该基片从而将与该固体成分相互作用的该污染物从该基片去除。 | ||
| 申请公布号 | CN101351282A | 申请公布日期 | 2009.01.21 |
| 申请号 | CN200680050024.1 | 申请日期 | 2006.12.08 |
| 申请人 | 朗姆研究公司 | 发明人 | 埃里克·M·弗里尔;约翰·M·德拉里奥斯;卡特里娜·米哈利钦科;迈克尔·拉夫金;米哈伊尔·科罗利克;弗雷德·C·雷德克;克林特·托马斯;约翰·帕克斯 |
| 分类号 | B08B7/00(2006.01) | 主分类号 | B08B7/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 余刚;尚志峰 |
| 主权项 | 1.一种用于从基片去除污染的方法，包括：将清洁材料设在基片上。该清洁材料包括多种分散在液体媒介中的固体成分；向多种固体成分中的一种固体成分施加力以使该固体成分接近该基片上存在的污染物，从而在该固体成分和该污染物之间建立相互作用；以及移动该固体成分远离该基片，从而将与该固体成分相互作用的污染物从该基片去除。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||