| 发明名称 | 减反射光学膜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种减反射光学膜，其可以通过将包含不具有含氟有机取代基的硅氧烷树脂材料(烷氧基硅烷化合物的低聚物、氨基硅烷偶联剂及硅氧烷接枝丙烯酸聚合物)的热固化性低折射率涂层剂涂布于透明基材膜上，并在干燥机内连续进行干燥与热固化来制造，其不会因卷紧而发生品质劣变，具有优良的减反射性、防污性、耐化学药品性、耐擦伤性等，并且可以高效制造，价格低廉。该减反射光学膜具备具有近红外光吸收功能及氖光吸收功能的层，因此适合作为PDP用光学膜。 | ||
| 申请公布号 | CN101351332A | 申请公布日期 | 2009.01.21 |
| 申请号 | CN200680049799.7 | 申请日期 | 2006.12.20 |
| 申请人 | 日本化药株式会社 | 发明人 | 穗积康弘;永吉邦光;金子胜一;高桥岩 |
| 分类号 | B32B27/00(2006.01);B32B7/02(2006.01);C08J7/04(2006.01);G02B1/11(2006.01);G02B5/22(2006.01) | 主分类号 | B32B27/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王海川;樊卫民 |
| 主权项 | 1.一种减反射光学膜，其中，在透明基材膜上具有低折射率层，该低折射率层通过含有不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物、不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂、不具有含氟有机取代基的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物及溶剂的热固化性树脂组合物的涂层的固化而得到。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||