利用脉冲式ＶＨＦ操作来控制电浆物种和均匀度

摘要

一种用于处理一基板之设备系具有一腔室、一高频功率源以及一低频功率源。腔室具有设置于其中之第一电极及第二电极。高频功率源系电性耦接至第一或第二电极，以供应第一RF信号。低频功率源系电性耦接至第一或第二电极，以供应第二RF信号。第一RF信号系经脉冲而开启及关闭，藉以增进腔室中之电子损耗。