曝光装置、液浸系统、曝光方法、及元件制造方法

摘要

曝光装置，系透过液体以曝光用光使基板曝光。曝光装置具备：具有包含液体回收区域之液体接触面的液浸构件；以及配置于液体接触面之第1侧之多孔构件；配置于液体接触面之第1侧之物体上的液体，系自液体回收区域回收。